bsp; 李静宜对此很开心：“是的，脸聊的估值已经到了两千万美元了，我那百分之三十的股权已经翻了三倍，而且看增长速度，市值还会保持一个高速增长的态势。”
周新说：“所以你还不如拿自己的钱去投资脸聊，何必帮高盛打工呢，这笔投资再成功你能拿到手的钱无非是一百万美元，扣完税可能也就六十万左右。
帮别人工作的性价比太低了。”
李静宜解释道：“不是一回事，首先那是你的钱，再者我需要工作，无论是帮你工作还是帮高盛工作，我想帮自己工作但是我没有这个资本。
能从这笔投资拿到六十万美元我已经满意了，慢慢积累资本，我也要开属于自己的投资机构！”李静宜显得信心十足。
周新听完后也回完了邮件：“你有信心就好，我这两天要回华国一趟，大概回去一周时间。”
周新要回国是为了新芯光刻机而去的，新芯光刻机从180nm开始启动，购买的是尼康的技术，不仅仅采购的尼康的技术，还从霓虹挖了一些科研人员和工程师到张江。
在林本坚的带领下，加上新芯科技自己进入芯片代工领域之后，180nm光刻机良品率增长非常快，进入到今年之后，新芯科技180nm的光刻机已经能和尼康、ASML同制程的光刻机有不相上下的良品率。
现在在做130nm光刻机的研究，周新在看新芯光刻机的半年工作报告的时候，在想要不要和林本坚聊关于湿法工艺的事。
湿法工艺是指浸没式光刻机技术，和之前的干式工艺相比，该工艺在光刻机投影物镜的最后一个透镜和光刻胶之间加了一层液体，这层液体能让光波频率更高，成像分辨率也得以提高。
湿法工艺是光刻机技术突破65nm的关键，现在的芯片工艺已经到了90nm，再想突破，靠干式工艺也行，只是要更久的时间。
当然湿法工艺也不是说加一层水那么简单，湿法工艺需要考虑到的问题有非常多，比如说浸入环境引起的气泡和污染、抗蚀剂与流体或面漆的相容性、折射指数大于1.65的流体粘度、吸收和流体循环要求等等。
这是一整套技术，失去林本坚这样的关键人物，光刻机技术往65nm研发的过程中进展缓慢。
湿法工艺没有被研究出来，全球进入65nm时代至少得晚两年时间，也就是说原本到2004年年底会进入到65nm制程，将被推迟到2006年，同时ASML也无法借助这一技术实现弯道超车。
光刻机领域依然是群雄逐鹿的状态，新芯光刻机有趁机偷鸡的机会。
这对新芯光刻机是利好，大家都不动的时候，就轮到新芯追赶了。
而新芯光刻机的半年报说了他们已经完成了130nm的光刻机研发，后续就是大量的实验以及进入生产环节提高良品率，这都是水磨工夫。
同样芯片制程无法进入65nm，对Matrix来说就没有那么友好了，Mphone将无法实现算力的进化，它和
