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那一刻，她心中已有明确方向。
光刻机，必须有人来攻克。
如果没有，那她来。
姜蕴宁离开芯片制造车间后，直奔上级主管部门的办公室。
一个星期后，姜蕴宁现身于华国光电设备研究所。
这所研究所，是国内最早涉足光刻设备研的单位之一，长期扎根于193narf系统，积累了深厚的技术经验，在机械控制、光学调校等关键环节具备坚实基础。
然而在更高阶的euv领域，却始终难以迈出关键一步。
她随行简约，仅携带一台笔记本电脑，里面载有“苍穹x2”
后期架构模拟器、压缩算法模型及若干关键工艺分析图表，以及一本亲手撰写的技术笔记。
两名安保人员默默陪同，这场闭门对接没有对外披露。
她来此，并非寻求配合，而是带着方案而来。
研究所所长莫清文刚收到来自最高层的指示——全力支持姜蕴宁工程师的工作，集中调配所内资源，攻克光刻机技术瓶颈。
鉴于当前技术受限与国家战略需求的双重压力，必须加快投入、优先保障、强化攻关，推动国产光刻设备实现关键突破与加产业化。
他还未完全回过神，助理便敲门进来：“姜工程师到了。”
他眉头微挑，低声道：“姜蕴宁？她亲自来了？”
最近这位年轻工程师在芯片领域声名鹊起，影响力越来越大。
他放下手中的文件，眉头微微皱起。
接着迅起身，走向会议室，同时低声交代助手：“马上安排接待，调集相关技术团队准备汇报。”
心里却隐隐感到，这场风暴，恐怕才刚刚开始。
会议室里，气氛一度凝滞。
莫清文坐在主位，眉头微皱：“姜工，我们当然理解你带来的项目重要性。
但你也清楚，euv不是简单升级光源或者加几组透镜能解决的事情。
产业链不完整、材料不成熟、环境控制还差一个代际。”
“尤其是极紫外反射镜和掩膜污染问题，我们连能做预研的样机平台都没有。”
另一位资深工程师补充道，语气中透出一丝无奈。
姜蕴宁没有立刻反驳，她缓缓打开笔记本，投影出一组“苍穹x2”
后端封装与投影层布局的数据图。
“各位，我不是来给你们布置任务的。”
她语调平静却有压迫力，“我只是来告诉大家，苍穹x3已经跑通测试，x4已立项，x5架构进入预审阶段。
而我们现有的光刻平台，连x2都支撑不住。”
屏幕上，一组良率下滑趋势图浮现，其后是一张工艺匹配性热力图，红区几乎覆盖了核心制程段。
