的阿美利肯企业。
因为新芯的初始员工里有大量硅谷来的华裔工程师。
这次在听到新芯实现了光刻机领域的技术突破，顺利把制程工艺推进到了40nm，这让东哲郎既沮丧又高兴。
沮丧是因为华国发展太快，霓虹人的身份让他天然有警惕，同时也是为尼康感到不安，新芯实现了光刻机领域的突破，尼康要何去何从？
高兴则是因为，霓虹和华国在芯片领域更多是互补，而不是竞争，霓虹是卖半导体材料、半导体设备的，高丽才是搞芯片生产的，华国在芯片领域的崛起更多还是影响到高丽的芯片产业。
东哲郎笑道：“我只是在其中起到了一点微不足道的作用，林君和新芯能够取得突破，靠的是你们自己的功劳。
当年我帮你们和尼康之间牵线，尼康那边很自信的把技术卖给你们，他们在得到消息之后肯定很后悔。”
林本坚说：“尼康仍然是这个领域的领先者，我们无非是取得了一点微不足道的优势罢了。”
之所以ASML在实现40nm制程之后能迅速把尼康甩在身后，短短两年时间就把光刻机市场百分之七十的份额吃掉，和欧美资本集体抛弃霓虹技术有着直接关系。
要是欧美资本不抛弃尼康，给尼康机会，这场战斗不会这么快分出胜负。
以EUV光刻机为例，也就是所谓的EUV光源，这玩意最早就是霓虹做的实验，霓虹在1986年的时候就顺利完成了EUV光刻的实验室验证。
霓虹在2001年的时候更是认为EUV光刻会是50nm技术节点之后最有前途的技术。
只是他们没有想到，193nm波长的光源在浸润法的加持下，能够一直搞到7nm，然后再换EUV。
霓虹的光刻机技术被欧美资本抛弃后再也没有了上车机会。
东哲郎说：“林君，太谦虚了。
在我们这个行业，技术为王，技术优势就是一切。
后天的展会上一旦你向参会的企业代表们证明了新芯的光刻技术能够帮助芯片从65nm进入到40nm时代，那么整个半导体产业都将用脚投票，放弃尼康转投新芯。
技术的迭代不会给落后方机会，就好比Newman的智能手机让诺基亚被时代抛弃一样。”
东哲郎为尼康感到遗憾，但是尼康和他没有多大关系，和新芯保持好关系才是王道。
东京电子的半导体材料还要卖给新芯呢。
“我对新芯的技术很有信心，我们已经经过了实验室论证。
新芯现在正在进行生产验证，一旦生产验证通过，Newman表示过，后续要推出的Mphone3将搭载40nm工艺的智能手机芯片。
同样的鸿鹄芯
