氨气和三甲基镓的流速配比。
如何设置多量子阱结构的温度梯度曲线。
如何避免位错缺陷……所有这些曾经如同天堑般的难题，在这份详尽到令人发指的菜谱面前，都变得清晰明了。
“地图……我们终于有地图了！”
吴振邦院士捧着打印出来的厚厚一叠参数表，热泪盈眶。
他们立刻根据这些参数，对那台从欧洲进口的MOCVD设备进行了重新校准和设置。
第一次试生产，启动！
所有人都围在设备前，死死盯着观察窗里那片蓝紫色的等离子体辉光，连呼吸都忘了。
然而，当第一片2英寸的GaN晶圆被机械臂取出，送到检测台时，所有人的心都沉了下去。
“缺陷密度……高于10的8次方……不合格。”
“表面粗糙度……太差了，完全不能用。”
“霍尔迁移率……只有不到200，离军用标准差得太远！”
失败了。
明明严格按照“菜谱”来的，为什么还是失败了？
吴振邦院士拿着那片废品，双手都在颤抖。到底是哪里出了问题？
就在实验室陷入绝望之时，一个电话打到了吴振邦的办公室。
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