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第325章 神迹光刻胶震全球!ASML连夜求见,宇神:先排队!(1 / 2)

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京都国际会议中心,发布厅内,死寂一片。

所有人的目光,都凝固在主席台那块巨大的LED屏幕上。屏幕中央,那个布满了复杂苯环和化学键的分子结构式,以及那行醒目的大字——【神迹(Miracle)-1号——次世代金属氧化物EUV光刻胶】,正无声地宣告着一场即将到来的科技海啸。

“不可能!”一个来自《华尔街日报》的科技记者,终于打破了沉默,他的声音带着一丝难以置信的颤抖,几乎是吼出来的。他身旁,来自路透社、美联社的同行们,也纷纷从座位上弹起,脸上写满了震惊、骇然,以及一种深深的恐惧。

他们都是半导体行业的资深记者,深知EUV光刻胶对芯片制造的重要性。这玩意儿,是真正卡住全球半导体产业脖子的“咽喉”技术。分辨率、灵敏度、蚀刻选择性,这三个参数,每一个都足以决定一款光刻胶的生死,更何况是EUV级别的。

屏幕上,那几个被放大显示的参数,每一个都像是一记重锤,狠狠地敲击在他们的心头。

【分辨率:优于0.1nm(理论极限)】

【灵敏度:5mJ/cm2(全球最高)】

【蚀刻选择性:1:10(全球最高)】

这些数字,远超目前市场上任何一款EUV光刻胶的性能指标。0.1纳米的分辨率,意味着什么?意味着理论上可以制造出比5纳米更小,甚至达到原子级别的芯片!5毫焦耳每平方厘米的灵敏度,更是将日本信越化学引以为傲的10毫焦耳每平方厘米甩出了好几条街,直接将EUV光刻机的生产效率提升了一个数量级!而1:10的蚀刻选择性,则完美解决了刻蚀过程中对底层材料的损伤问题。

这根本不是“技术突破”,这是“降维打击”!

“这……这是真的吗?!”一个记者失态地喊道,他的声音因激动而变得有些尖锐。

陈正宇看着台下记者们从疑惑、不屑到震惊、狂热的表情变化,嘴角微微上扬。这就是他要的效果。他清了清嗓子,声音不大,却清晰地传入每一个人的耳中。

“各位朋友,请安静。”

他的话语,带着一种不容置喙的威严,让原本喧嚣的发布厅,瞬间再次陷入了死寂。

“我知道,大家可能对屏幕上的数据感到难以置信。”陈正宇的目光扫过全场,带着一丝玩味,“毕竟,在过去几十年里,EUV光刻胶技术,一直被少数几家公司所垄断,甚至被某些国家,当成了遏制他国科技发展的工具。”

他顿了顿,语气变得有些冷冽:“就在昨天,九州微电子还收到消息,ASML公司,在某些国家势力的干预下,单方面撕毁了与我们签订的采购合同,并联合美国商务部,对我们实施了全面的技术禁运。”

此言一出,全场哗然。记者们面面相觑,脸上写满了震惊。虽然他们隐约知道有这回事,但从陈正宇口中证实,还是让他们感到不可思议。这简直是赤裸裸的商业霸凌!

“他们以为,卡住了我们的脖子,我们就无法发展。”陈正宇的目光变得锐利起来,如同出鞘的利剑,“他们以为,没有了他们的设备和原材料,我们就会停滞不前,甚至崩溃。”

他走到屏幕前,指了指那个复杂的分子结构式,脸上露出一抹带着几分轻蔑的笑容。

“但他们错了。大错特错。”

“我们华夏人,从不惧怕任何封锁和打压。因为我们知道,真正的技术,是掌握在自己手中的。真正的创新,是源于不屈不挠的意志和智慧。”

“这份‘神迹-1号’次世代金属氧化物EUV光刻胶,就是我们九州微电子,在林振国院士带领的科研团队,以及我的亲自指导下,攻坚克难,自主研发的最新成果!”

“它不仅全面超越了目前市场上所有主流EUV光刻胶的性能,更重要的是,它的所有原材料,都实现了国产化,完全不受任何外部势力的制约!”

他这番话,如同平地惊雷,再次在发布厅内炸响。<

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