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第三百六十五章 两边的进展(5 / 5)

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    因为ASML提前放出消息,称他们这次会有很多新技术。所以林本坚是去参加了旧金山的电子展,他在参加完回到张江后倍感压力。

    “在制造过程中,ASML他们整的这套一体化光刻技术充分利用独特的测量技术和反馈回路,可以实时监控刻蚀精度和CPU性能,使系统持续以工艺规格为中心。”林本坚继续说。

    新芯光刻机的技术专家们汇聚一堂,大家都在讨论ASML这次放的大招,可能给新芯光刻机带来的影响,以及他们要怎么追赶。

    “老实说这一套我们也能搞,问题是我们需要知道,ASML在这套技术路线里,设置了哪些专利墙,如果专利墙太多,我们可能要想绕开的办法。”新芯光刻机的某位技术专家说。

    (本章完)

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